MIRUC米拉克的XY軸驅動平臺通過精密的機械結構（如齒條-小齒輪和燕尾榫）實現平滑移動，利用抗振動設計保持穩定，并通過可選的光電編碼器或線性編碼器實現閉環控制，從而達成微米甚至納米級的高精度定位。、

?? 核心組件與技術特點

MIRUC米拉克光學XY軸驅動平臺的高精度源于其幾個核心組件和技術的協同工作：

?? 典型應用場景

憑借其高精度和穩定性，MIRUC米拉克XY軸驅動平臺廣泛應用于：

• 工業顯微鏡：用于樣品臺的高精度定位，實現快速聚焦和精確觀察。

• 光學檢測與半導體：在PCB曝光機、晶圓切割設備中執行微米級對位。

• 自動化集成：通過電機驅動模組（如步進電機或線性磁軸電機）升級為電動平臺，支持高速掃描（最高200mm/s）。

?? 總結與提示

MIRUC日本米拉克光學XY軸驅動平臺的工作原理，是其精密機械設計、高質量材料、抗振技術以及可選閉環控制共同作用的結果。其優勢在于極低的動態偏差（如雙向重復性±0.5μm）和模塊化擴展能力。

在選擇和使用這類平臺時，有幾點需要注意：

• 精度與負載：平臺的移動精度（如直線度）和承載負載（kgf）是關鍵參數，需根據實際應用選擇合適型號。

• 手動與自動：手動型號依賴操作者手感，如需更高自動化，可結合電機驅動模組實現納米級閉環控制。

• 環境因素：雖然平臺具有抗振動設計，但外部強烈的振動或溫度波動仍可能影響精度，應在穩定的環境中使用。