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日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備
簡要描述:

日本ULVAC愛發科半導體間EI系列歇式真空沉積設備
日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備

  • 產品型號:EI系列
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-10-14
  • 訪  問  量:469

詳細介紹

日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備

日本ULVAC愛發科半導體間歇式真空沉積設備


間歇式高真空蒸發設備EI系列

間歇式高真空蒸發設備ei系列是一種在基材上形成金屬和氧化物薄膜的設備。排氣作業及成膜作業可在操作面板的集中控制下自動進行,適合研究開發及小規模生產。


特征

  • 可配備各種蒸發源(EB、電阻、EB+電阻)

  • 根據工藝(升空、行星、衛星等)的基材支架

  • 兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。

  • 液晶觸摸屏集中顯示和操作

  • 使用 PC 的出色操作性和功能(配方功能、數據記錄、維護輔助功能)

目的

  • 功率器件等相關化合物

  • LED、LD、高速器件

  • 用于各種實驗

  • 其他一般電子零件



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